新闻动态

2026-05-28 行业动态

光学与半导体精密加工推动抛光材料精细化发展

随着终端器件精度提升，抛光材料需要在高去除率、低缺陷和批次稳定之间取得更高平衡。

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2026-05-20 行业动态

蓝宝石与晶圆CMP应用拉动纳米抛光液稳定性升级

面向硬脆材料和晶圆平坦化加工，纳米抛光液正从单一去除效率转向低划伤、低残留和长期稳定的综合表现。

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